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      產品資料

      晶圓級等離子清洗系統

      • 如果您對該產品感興趣的話,可以
      • 產品名稱:晶圓級等離子清洗系統
      • 產品型號:
      • 產品展商:燕園科技
      • 產品文檔:無相關文檔
      簡單介紹

      晶圓級等離子清洗系統

      產品描述
      產品介紹

      整機結構

      帶load port系統分為前端設備操作單元、前端EFEM單元及等離子處理單元,前端EFEM系統與等離子體處理單元分體式設計

      等離子體源

      射頻等離子體源或雙頻等離子體源

      反應腔室

      標準設計為雙反應腔室,可根據需求定制單反應腔室和多反應腔室結構

      機械傳片

      單臂或雙臂高精度機械手

      Wafer升降

      機械式Wafer pin升降結構,Wafer pin采用特定工藝處理

      真空泵

      干式真空泵,根據安裝位置及工藝不同,選擇100-300m3/h規格。如工藝需求,可增加分子泵

      工藝壓力控制

      自動調壓蝶閥或固定旁通結構

      真空檢測

      管道真空計、反應腔室全量程真空計、工藝真空計

      工藝氣體種類

      標準配置Ar、N2、O2,可增加其他工藝氣體

      氣體流量控制

      質量流量控制器(MFC)

      控制系統

      基于工業電腦設計開發的人機交互系統,系統設計人性化、操作簡單

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